什么是半导体靶材？靶材包括ITO、钼、铜、铝、硅、钛、钽及各类合金与稀有金属靶材，产品形态结构分为平面，旋转靶。镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。

      靶材喷砂熔射工艺，一种靶材的处理方法，包括：提供靶材，所述靶材包括边缘区域的非溅射区；对所述靶材的非溅射区表面进行喷砂处理，形成粗糙面；对所述粗糙面进行熔射处理，在所述非溅射区表面形成膜层。经喷砂处理后，靶材的非溅射区表面形成粗糙面；接着，对粗糙面进行熔射处理形成膜层，由于粗糙面凹凸不平，熔化的粉末很容易在粗糙面着陆，而不会滚落。相比于单纯的喷砂处理，经喷砂、熔射处理后的非溅射区表面形成的膜层与非溅射区表面的粘附性强。在将本技术方案的靶材应用到真空溅射较长时间时，即使靶材原子形成堆积，膜层也不会脱落，保持溅射参数稳定。而且，这显著提高了靶材的使用寿命，最终可提升多于50%的靶材寿命。

      该工序对喷砂设备的要求极高：一是需要机器人或喷砂机械手对工件进行精确喷砂清理和覆盖，清洁度，覆盖率，粗糙度保持一致、均匀；二是需要适用各类超细磨料，对喷砂设备的稳定性要求极高，三是环保性能要求高，设备控制系统必须全面数据化，智能化。

靶材—高性能薄膜新材料

      派挺科技针对半导体靶材行业专项研制的系列机器人智能喷砂机为半导体靶材行业提供了完备的国产化设备及工艺技术解决方案，不再依日韩欧美的技术设备。

      半导体专用设备属于半导体行业产业链的支撑环节，派挺科技将深度耕耘，持续创新研发，为中国半导行业提供一流的装备技术贡献力量。